概要
(A) 電子回路とマイクロメカトロニクスを融合した集積化MEMSデバイスの設計・製作・評価に関する研究
(B) 画像ディスプレィ用超小型MEMS光スキャナの構造解析・設計に関する研究
募集職名
募集人員
勤務形態
任期
(A) 最長で平成26年3月末まで
(B) 最長で平成24年3月末まで
着任時期
平成23年10月、あるいは、それ以前のできるだけ早い時期
勤務地
東京都目黒区駒場4-6-1 東京大学先端科学技術研究センター
応募資格
博士の学位を有する方。下記のいずれかの条件を満たすこと。
- MEMSデバイス設計、製作、評価の経験があること。
- デジタル集積回路設計、評価の経験があること。
応募方法
履歴書、発表文献リスト、研究業績の説明(A4サイズ、2ページ以内、日本語または英語)、主要な論文の別刷りPDFをまとめた上で、メールにて送付してください。
応募締切
2011年5月31日
注意:応募状況によっては、上記の日付け以前に応募を締め切ることがあります。
書類送付先
東京大学 先端科学技術研究センター
極小デバイス理工学分野 教授 年吉 洋
E-mail: hiro <at> iis.u-tokyo.ac.jp
(<at> を @ に変えてください)
選考方法
採否の決定
書類審査の上、面接審査を実施した後に採否を決定いたします。着任時期や任期などの詳細は相談させていただきます。
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