研究者一覧

- 教授Professor
- 高橋 哲TAKAHASHI Satoru
略歴
1995年 3月 | 大阪大学大学院工学研究科博士前期課程修了 |
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1996年 4月 | 大阪大学工学部 助手 |
2002年10月 | 大阪大学大学院工学研究科 講師 |
2003年 1月 | 東京大学大学院工学系研究科 助教授 |
2013年 6月 | 東京大学大学院工学系研究科 教授 |
2014年 4月 | 東京大学先端科学技術研究センター 教授 |
2023年 4月 | 東京大学大学院工学系研究科 教授 |
研究分野
次世代の超精密ものづくりを実現するため,我々生命体の根源をなす“光”エネルギを媒体とした新しいマイクロ/ナノ加工・計測・生産技術に関する研究を推進している.すなわち,従来から製造現場において広く用いられてきた,高い遠隔制御性を特徴とする自由空間伝搬光エネルギに加え,主に基礎科学分野において用いられてきた,高い空間的局在性を特徴とするエバネッセント光や近接場光といった局在光エネルギも含めて,次世代の先進的生産技術を支援する光エネルギの可能性を追求している.具体的には,レーザー応用ナノインプロセス計測,レーザー応用ナノ加工に代表される先進製造を実現するための要素技術開発とともに,新しいマイクロデバイス生産システム概念となるセルインマイクロファクトリを提唱し,その確立を目指している.それぞれの研究・技術開発においては,(a) 新概念の提案から,(b) 理論・実験両面からの特性解析,(c) 実用化を見据えた実験的検証までをカバーする.主な研究テーマは以下の通りである.
(1) エバネッセント局在フォトンを用いたナノ光造形の開発
(2) 半導体製造におけるナノ欠陥の高分解能・高感度・光学的計測法の開発
(3) 光触媒ナノ粒子を用いた三次元マイクロ構造レーザー直描法の開発
(4) 局在光エネルギの動的制御を用いたセルインマイクロファクトリに関する研究
(1) エバネッセント局在フォトンを用いたナノ光造形の開発
(2) 半導体製造におけるナノ欠陥の高分解能・高感度・光学的計測法の開発
(3) 光触媒ナノ粒子を用いた三次元マイクロ構造レーザー直描法の開発
(4) 局在光エネルギの動的制御を用いたセルインマイクロファクトリに関する研究
キーワード
レーザ応用ナノ計測,レーザ応用ナノ加工,セルインマイクロファクトリ